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ASML公布财报及预期:未来两年还将持续增长

2022-11-10 16:59:57 作者:ITCN
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2021年在缺芯的主旋律下度过,虽然芯片短缺,但是半导体行业的营收、增长等各方面还是非常不错的。光刻机巨头ASML在1月19日公布2021年财报,第4季度及2021全年业绩均创历年新高且优于预期。ASML在2021年营收为186.11亿欧元,同比增长35%,毛利率52.7%,净利润为58.83亿欧元。其中,2021年第4季营收为49.86亿欧元,净利润为17.74亿欧元,毛利率54.2%。

ASML在2021年共销售287台光刻系统,贡献136.53亿欧元。其中42台为EUV光刻系统机,贡献约63亿欧元营收,销售额占比高达46%;ArFi光刻系统81台,销售额占比36%;ArF光刻系统131台,销售额占比10%;i-Line光刻系统33台,销售额占比1%。从光刻系统的最终用途来看,70%用于逻辑半导体制程,30%用于存储芯片的制造。最终出货地方面,中国台湾地区贡献的销售额占比高达44%,韩国占比35%,中国大陆占比16%。

ASMLCEO温彼得表示从2018年获得第一份TWINSCANEXE:5000的订单开始,ASML已经收到四份这款光刻机的订单。EXE:5000主要面向3nm工艺,第二代的0.55NAEUV光刻机TWINSCANEXE:5200将会被用于2nm工艺的生产。

新增订单方面,AMSL在2021年的全年新增订单为262.40亿欧元,其中一半来自于EUV光刻机。2021年第4季度金额为70.50亿欧元。不仅如此,ASML还宣布第二代高数值孔径(High-NA)光刻机TWINSCANEXE:5200在2022年一季度获得首个订单,意味着可用于2nm芯片制造的光刻机,有望在2024年交付。

温彼得表示2021年ASML的EUV出货量增长不高的原因,是由于第三季度物流中心和供应链影响造成的。但这部分已由EUV光刻机的安装和升级等基础收入补偿,特别是ASML称为生产力提升包的大量安装,为客户提供生产力升级。

ASML还公布2022年第一季度营收,在33-35亿欧元之间,毛利率约49%。预计第一季度研发成本约7.6亿欧元,SGa成本约为2.1亿欧元。

对于2022全年的业绩预期,ASML乐观的认为会保持同比约20%左右的营收增长。预计2022年的EUV光刻机的出货量将达55台,其中6台的收入将会推迟到2023年确认。ASML预计2023年EUV光刻机的出货量将增长到60台。在安装基础选项方面,温彼得表示,2021年的基础选项安装增长强劲,客户对于安装基础选项的需求增加很多,预计2022年仍将增长约10%。

台积电、三星、英特尔在大力投资相关技术,按照芯片制造商的规划,未来两年的先进工艺将来到3nm,2024年后逐渐步入2nm(intel20A),以满足高性能计算等先进芯片需求。3/2nm工艺的实现则需要依赖于ASML新一代的高数值孔径(High-NA)EUV光刻机EXE:5000系列。

目前主流的5nm等工艺使用的EUV光刻机,是ASML采用基于0.33数值孔径透镜的EUV光刻系统,0.33数值孔径透镜的EUV光刻系统的分辨率为13纳米,迭代的EXE:5200具有0.55数值孔径的镜头,分辨率可达8纳米,并且拥有更高的生产效率和成本的更低。KeyBanc称,一台0.55NAEUV光刻系统的预计成本为3.186亿美元,正在出货的EUV光刻机则是1.534亿美元,价格肌肤翻倍。

根据ASML的路线图,TWINSCANEXE:5000会在2022年下半年出货,每小时可生产185片晶圆。TWINSCANEXE:5000则在2024年底出货,每小时可生产超220片晶圆。

英特尔在2021年7月底的Intel加速创新制程工艺和封装技术线上发布会上宣布,将在2024年量产20A工艺(相当于台积电2nm工艺),并率先获得业界第一台High-NAEUV光刻机,而ASML的TWINSCANEXE:5200光刻机的首份订单来源于英特尔。

对于英特尔来说,抢先获得ASMLTWINSCANEXE:5200光刻机,是英特尔在制程工艺上超越台积电、三星,重回领先地位的关键。台积电和三星此前也在争夺HightNAEUV光刻机,2021年10月初,三星率先宣布将在2022年上半年量产3nm工艺,并计划在2025年抢先台积电量产2nm。

在英特尔获得首台TWINSCANEXE:5200光刻机之后,消息称三星也在紧急抢购一台HightNAEUV光刻机,并要求ASML直接拉到三星工厂内进行测试。台积电也在此前的法说会上表示,2025年台积电2nm制程不论是密度或是效能,都将是最领先的技术。

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